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技術(shù)支持

相敏渦流法測(cè)量原理

更新時(shí)間:2021-05-26   點(diǎn)擊次數(shù):2359次

涂層厚度測(cè)量的物理原理

相敏渦流法是根據(jù)標(biāo)準(zhǔn)ISO21968測(cè)量涂鍍層層厚度的一種方法更優美,它是對(duì)傳統(tǒng)的振幅敏感渦流法的一種改進(jìn)方法進一步推進。相敏渦流法可用于測(cè)量任何基材上的導(dǎo)電涂層重要手段,例如高端化,印刷電路板上的銅層新體系,鋼鐵或絕緣材料上的鍍鎳層結構。 

相敏渦流法相對(duì)于磁感應(yīng)法 或振幅敏感渦流法的一個(gè)優(yōu)勢(shì)是其不太容易受到太多外界因素的影響。例如探索,樣品的曲率或其表面粗糙度幾乎不會(huì)影響測(cè)量結(jié)果。因此,相敏渦流法是測(cè)量小零件鍍鋅層厚度的理想選擇重要作用,且無(wú)需額外校準(zhǔn)堅持先行。 

相敏渦流法的工作原理

相敏渦流法所用的探頭由周?chē)鷩@著兩個(gè)線圈的鐵素體鐵芯組成。首先增幅最大,勵(lì)磁線圈中的電流產(chǎn)生高頻磁場(chǎng)(kHz-MHz范圍)具體而言,該磁場(chǎng)在樣品中產(chǎn)生渦流。 

探頭里的另一個(gè)線圈滿意度,即測(cè)量線圈奮戰不懈,用來(lái)測(cè)量交變電阻(阻抗)。探頭的阻抗通過(guò)樣品中的渦流修正智慧與合力,與無(wú)樣品時(shí)探頭產(chǎn)生的激勵(lì)渦流相比物聯與互聯,其相位發(fā)生偏移(相位角φ)。 

相位角φ與鍍層厚度以及材料的電導(dǎo)率有關(guān)。如果電導(dǎo)率已知勇探新路,則儀器將此相位與已存儲(chǔ)的特征曲線進(jìn)行對(duì)比,并將其轉(zhuǎn)換為涂層厚度值形式。

非接觸測(cè)量

相敏渦流法在測(cè)量鍍層厚度方面具有很大的優(yōu)勢(shì)擴大。如上所述,該方法的實(shí)際測(cè)量信號(hào)是直接在鍍層中產(chǎn)生的傳遞,這將它與磁感應(yīng)法和振幅敏感渦流法區(qū)別開(kāi)來(lái)讓人糾結,后者是測(cè)量來(lái)自底材的信號(hào)衰減。 

這就是為什么探頭不必直接接觸鍍層也可測(cè)量;它甚至可以隔著其它涂層來(lái)測(cè)量它下面的金屬鍍層發揮效力,如duplex測(cè)量應(yīng)用. 

測(cè)量過(guò)程中需要注意的事項(xiàng)

所有的電磁測(cè)量法都是通過(guò)比較的方法全面革新。也就是將測(cè)量信號(hào)與存儲(chǔ)在設(shè)備中的特征曲線進(jìn)行比較。為了得到正確的結(jié)果穩定發展,特征曲線必須與當(dāng)前條件相匹配方便,可通過(guò)校準(zhǔn)來(lái)實(shí)現(xiàn)。 

正確的校準(zhǔn)才是關(guān)鍵更好!

影響相敏渦流法測(cè)量鍍層厚度的主要因素是材料本身的電導(dǎo)率以及磁性基石之一,樣品大小也很一個(gè)關(guān)鍵因素。此外安全鏈,操作者應(yīng)確保在任何測(cè)量過(guò)程中始終正確放置探頭行業分類。

電導(dǎo)率的影響

鍍層和基底材料的電導(dǎo)率決定了感應(yīng)渦流的密度,從而直接影響鍍層厚度的測(cè)量值增持能力。因此應用領域,儀器必須使用與實(shí)際產(chǎn)品*相同的基底材料進(jìn)行校準(zhǔn)。

樣品厚度的影響

對(duì)于金屬的基底材料提高鍛煉,不僅會(huì)在涂層中產(chǎn)生渦流統籌推進,在基板中也會(huì)產(chǎn)生渦流。如果基底材料很薄(例如金屬薄板)新模式,則有最小厚度的限制——這取決于測(cè)量頻率和材料重要作用。 

操作人員的影響

最后重要一點(diǎn),儀器的操作方式也是一個(gè)主要的影響因素應用情況。確保探頭始終垂直接觸被測(cè)面很重要,且不受外力。為了獲得更準(zhǔn)確的測(cè)量值也逐步提升,還可以借助測(cè)量臺(tái)來(lái)使探頭自動(dòng)接觸樣品技術的開發。

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